高纯度科研用铜靶
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高纯度科研用铜靶
来源：北京中金研新材料科技有限公司
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简介： 铜靶材（Copper Target）是真空镀膜行业溅射靶材的一种，由高纯度铜材料经加工制成特定尺寸和形状，适配磁控溅射、射频溅射等工艺，用于镀制半导体薄膜、导电膜等功能膜层 [。主要应用于集成电路、半导体显示、光伏产业、新能源锂电、通信、超导、航天等领域 。产品形态包含平面靶（圆形/方形）、旋转靶（管状）及异型定制靶材 。
工作原理 技术参数 选型原则 应用案例 设备结构
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