高纯度科研用铝靶
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高纯度科研用铝靶
来源：北京中金研新材料科技有限公司
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简介： 铝靶材是真空镀膜行业中用于溅射镀膜的关键材料，由高纯度铝加工制成特定形状，应用于直流二极溅射、磁控溅射等工艺，可制备反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜等，也用于TFT-LCD和OLED显示屏的电极层和导电薄膜 。其纯度通常达99.995%以上，杂质含量低于0.005% ，主要分为平面靶材（圆形/方形）和旋转靶材（管状），后者利用率更高但加工工序复杂 。
工作原理 技术参数 选型原则 应用案例 设备结构
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