铬硅合金靶材
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铬硅合金靶材
来源:河北瑞弛新材料有限公司
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简介: 铬硅靶材是由高纯硅、铬熔炼铸造得到的中间合金,再精细破碎成粉,经过仔细的混粉,包套,抽真空,热等静压得到CrSi锭坯,经过机械加工得到客户需要的产品。
产品详细
铬硅合金靶材

产品详细参数如下:

产品类别 合金靶材

产品简称 CrSi

产品全称 Chrome silicon

产品纯度 99.9%,99.95%,99.99%

产品形状 平面靶,柱状靶,电弧靶,异型靶

生产工艺 Vacuum Melting,PM

最大尺寸 L≤1000mm,W≤200mm

铬硅合金靶材产品详情:

铬硅靶材是由高纯硅、铬熔炼铸造得到的中间合金,再精细破碎成粉,经过仔细的混粉,包套,抽真空,热等静压得到CrSi锭坯,经过机械加工得到客户需要的产品。

铬硅电阻薄膜是指一种常用的高阻薄膜材料。具有电阻率高、稳定性好、电阻温度系数小等特点。Cr和Si可以生成多种硅化物如Cr3Si , Cr5Si3, , CrSi , CrSi2等,铬硅电阻薄膜的性能与制备工艺、膜的成分、热处理工艺等密切相关。控制硅化物结构,可得到各种电性能材料。
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标签:铬硅合金靶材,合金靶材
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