产品详细参数如下：

产品类别 合金靶材

产品简称 CoNbZr

产品全称 Cobalt niobium zirconium

产品纯度 99.9%，99.95%，99.99%

产品形状 平面靶，柱状靶，电弧靶，异型靶

生产工艺 Vacuum Melting

最大尺寸 L≤200mm，W≤200mm

钴铌锆合金靶材产品详情：

钴铌锆靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是由高纯钴、铌、锆经过高真空熔炼得到铸坯，再经加工得到的产品，具有特定的尺寸和形状的高纯钴铌锆材料，安装在真空镀膜机上，溅射成膜。

CoNbZr合金靶材溅射得到的纳米晶磁性薄膜，与多晶态薄膜，主要是钴Co，钴铁CoFe和坡莫合金NiFe三种磁性薄膜，其中的非磁性隔离层是铜Cu等贵金属材料形成的三明治膜层，具有极薄的总体厚度(10nm左右)，较大的磁阻效应(10%以上)，稳定的单畴态，优越的翻转特性，翻转场均匀性偏差<8%，是生产RAM、MRAM等存储器件的重要的膜层材料。