钼溅射靶材描述

在电子工业中，钼溅射靶材主要用于平板显示器、薄膜太阳能电池的电极和布线材料以及半导体的阻挡层材料。这些是基于钼的高熔点、高导电性、低比阻抗、良好的耐腐蚀性和良好的环境性能。

参数


规范

组成：钼(Mo1，TZM)

纯度： ≥99.95%

密度：10.2g/cm³

晶粒度：≤100µm2或根据要求

粗糙度：Ra≤0.4μm

平面度公差：<4μm

备注：所有规格均可根据客户要求定制。

原子序数：42

CAS编号：7439-98-7

原子质量：95.94[g/mol]

熔点：2620摄氏度

沸点：4639摄氏度

20°C时的密度：10.22[g/cm³]

晶体结构：体心立方

20°C下的线性热膨胀系数：5.2 × 10-6 [m/(mK)]

20°C时的热导率：142[W/(mK)]

20°C时的比热：0.25[J/(gK)]

20°C时的电导率：17.9 × 106 [S/m]

20°C时的比电阻：0.056[(Ωmm2)/m]

应用：

太阳能电池、平板显示器、半导体工业、微电子、汽车灯具和装饰涂料，镀膜玻璃行业(包括建筑玻璃、汽车玻璃、光学玻璃和其他薄膜)等。