钨旋转溅射靶
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钨旋转溅射靶
来源:洛阳弘固金属科技有限公司
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简介: 特点:1.高密度;2.高耐磨;3.导热系数高,热膨胀系数低;4.高振动阻尼能力和高杨氏模量;5.高抗氧化性和耐腐蚀性;
产品详细

钨旋转溅射靶

参数


特点

1.高密度;

2.高耐磨;

3.导热系数高,热膨胀系数低;

4.高振动阻尼能力和高杨氏模量;

5.高抗氧化性和耐腐蚀性;

原子序数:74

CAS编号:7440-33-7

原子质量:183.84[克/摩尔]

熔点:3420摄氏度

沸点:5555摄氏度

20°C时的密度:19.25[g/cm³]

晶体结构:体心立方

20°C下的线性热膨胀系数:4.4 × 10-6 [m/(mK)]

20°C时的热导率:164[W/(mK)]

20°C时的比热:0.13[J/(gK)]

20°C时的电导率:18.2 × 106 [S/m]

20°C时的比电阻:0.055[(Ωmm2)/m]

应用

半导体

化学气相沉积

物理气相沉积(PVD)显示器
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标签:钨旋转溅射靶,溅射靶
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