钽酸锂靶材
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钽酸锂靶材
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简介： 钽溅射靶材是通过压力加工获得的钽片材，化学纯度高，晶粒尺寸小，再结晶组织和三个轴向的一致性好，主要应用于光导纤维，半导体晶片和集成电路的溅射沉积镀膜，钽靶材可用于阴极溅射涂层，高真空吸气活性材料等.是重要的薄膜技术用材料。穿甲弹：钽制穿甲弹是导弹的一种，如TOW2B导弹。Ta-10W等合金也可制作穿甲弹。
产品详细
钽酸锂靶材

产品名称：钽酸锂靶材

牌号：Ta1.Ta2.TaW2.5.TaW10.

标准：GB/3629-2006

纯度：≥99.95%

状态：退火态(M)或硬态(Y)

应用：钽溅射靶材是通过压力加工获得的钽片材，化学纯度高，晶粒尺寸小，再结晶组织和三个轴向的一致性好，主要应用于光导纤维，半导体晶片和集成电路的溅射沉积镀膜，钽靶材可用于阴极溅射涂层，高真空吸气活性材料等.是重要的薄膜技术用材料。穿甲弹：钽制穿甲弹是导弹的一种，如TOW2B导弹。Ta-10W等合金也可制作穿甲弹。

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标签：钽酸锂靶材,钽材
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