简介： 此款真空高温气氛炉通过预抽真空，确保炉膛内氧含量降到zui低。然后通入氮气、氩气或者氮氢混合气体，从而在气氛保护下获得理想的热处理效果。因其优秀的气氛环境以及紧凑实用性，目前已广泛的应用于材料实验室或者半导体、氮化硅等产品的小批量生产。