工作原理

设备采用直流电源驱动钨电极产生电弧，配合水冷铜坩埚形成稳定熔池。熔炼过程中，真空系统（机械泵+分子泵）将腔体压力降至≤5Pa，有效隔绝氧化；氩气保护系统确保熔炼环境纯净。水冷电极与坩埚设计可避免高温对炉体的热损伤，同时支持多工位熔炼与翻转操作，实现样品的均匀混合。

应用范围

KDH-1000ES广泛应用于高校及科研院所的新材料研发领域：

高熔点金属（如钨、钼、铌）及其合金的熔炼提纯；

非晶合金纽扣锭的制备；

金属间化合物、半导体材料的试样制备；

真空吸铸法制备大块非晶材料。

产品技术参数

额定功率：80kW

熔炼电流：1000A

真空度：≤5Pa（冷态极限）

熔炼坩埚：5个圆片型工位+3个半球形工位

工作气体：高纯氩气

控制方式：PLC+触摸屏

外形尺寸：1250×600×1700mm

产品特点

高效节能：1分钟内完成金属重熔，较传统设备效率提升40%；

精密控制：支持30组工艺曲线存储，温度波动≤±2℃；

模块化设计：坩埚、电极可快速更换，兼容粉末、丝状、屑状等多种形态样品；

安全可靠：配备超温报警、断水保护及防爆装置，符合CE安全标准。

KDH-1000ES以高性价比与灵活适配性，成为真空冶金领域科研与小批量生产的核心设备。