GPM-2-300光谱磨平机
在金相试样制备和光谱分析应用中,试样的磨平是金相制样和光谱分析前必不可少的重要工序。
产品介绍:
在金相试样制备和光谱分析应用中,试样的磨平是金相制样和光谱分析前必不可少的重要工序。GPM-2-300型光谱磨平机整机采用喷塑工艺制作,双盘独立控制,磨盘无级调速,独特罩壳设计可有效保障磨样安全,机箱内装有吸尘装置可避免环境污染,该机启动平稳、传动功率大、噪音低,可满足不同材料的制备要求,提高试样的磨抛质量和制备效率,是一种非常合适和功能完善的金相制样制备。
技术参数:
型号:GMP-2-300
磨盘直径:300mm
砂纸直径:300mm
转速:无级调速100~1400r/min
或四档速300, 600, 900, 1400 r/min
转向:顺时针或逆时针
电机功率:550W
显示及操作:数码管显示,薄膜按键操作,带吸尘装置
输入电源:单相220V, 50Hz, 10A
外形尺寸:820×440×940mm
净重:122kg