工作原理

OST-FA201基于电磁透镜成像原理，电子束从阴极发射后，经聚光镜聚焦至样品表面，穿透或散射的电子携带样品结构信息，再通过物镜与投影镜逐级放大，最终在荧光屏或传感器上形成高分辨率图像。设备采用高真空环境设计，确保电子束稳定传输，同时配备动态聚焦系统，可根据样品特性实时调整成像参数，实现纳米级细节的精准捕捉。

应用范围

该显微镜广泛应用于半导体芯片检测、金属材料分析、生物样本观察及新能源材料研究等领域。在半导体行业，可清晰呈现0.18μm级电路走线与缺陷；在材料科学中，能分析金属晶界结构与复合材料界面状态；生物领域则支持细胞器超微结构观察，为纳米医学研究提供可视化工具。

技术参数

OST-FA201具备多项核心指标：分辨率达0.8nm，加速电压5-30kV可调，放大倍数覆盖500-100万倍，支持明场/暗场双模式成像。设备搭载1200万像素CMOS传感器，配合4K超高清显示系统，可实时输出1600×1200dpi图像。样品台支持五轴电动控制，移动精度达0.1μm，满足复杂样品的精准定位需求。

产品特点

OST-FA201采用模块化设计，支持快速更换物镜与探测器，适应不同检测场景。其智能图像处理系统具备自动校准、噪声抑制与三维重构功能，可显著提升检测效率。设备还配备防辐射滤光片与红外保护装置，确保操作安全。凭借鸥斯特光学在光学领域的深厚积累，该显微镜在稳定性与兼容性方面表现卓越，已成为电子制造、科研院所及质量检测机构的首选设备。