工作原理

GC-MS6800S基于电子束与样品相互作用原理，核心流程如下：

电子束发射：高亮度钨灯丝或场发射电子枪发射电子束，经电磁透镜聚焦形成纳米级探针。

信号激发：电子束扫描样品表面，激发二次电子（SE）、背散射电子（BSE）及特征X射线。

形貌成像：二次电子探测器（SED）捕获SE信号，生成高分辨率表面形貌图像（分辨率≤3nm@30kV）。

元素分析：硅漂移探测器（SDD）捕获特征X射线，通过能谱仪（EDS）解析元素种类及含量（检测范围Be4-U92）。

图像处理：内置智能算法自动优化对比度、降噪及边缘增强，支持3D重构与粒径统计功能。

设备支持低真空模式（1-270Pa），可直接观测含水、油或非导电样品，无需喷金处理。

应用范围

材料科学：分析金属/陶瓷/高分子材料的晶粒尺寸、断口形貌及相组成分布。

半导体行业：检测芯片表面污染颗粒、键合线偏移及封装材料空洞率。

纳米技术：表征纳米颗粒形貌、分散性及碳纳米管/石墨烯的层数与缺陷。

生物医学：观察细胞超微结构、组织切片及微生物表面形态（需镀碳膜）。

失效分析：定位金属疲劳裂纹源、焊接接头虚焊位置及涂层脱落原因。

地质矿产：鉴定矿石矿物晶体形态、包裹体特征及选矿产品粒度分布。

技术参数

分辨率：3nm@30kV（高真空模式），10nm@3kV（低真空模式）

加速电压：0.5kV-30kV连续可调，支持低电压成像减少样品损伤

放大倍数：50x-500,000x，电子束流1pA-200nA自适应调节

EDS检测：能量分辨率≤129eV@Mn Kα，元素检测限0.1wt%，定量分析精度±0.5%

样品室：φ100mm×50mm大腔体，支持五轴电动样品台（X/Y/Z/R/T）

真空系统：低真空泵+离子泵双级抽气，从大气到高真空≤90秒

产品特点

一体化设计：集成SEM形貌观测与EDS元素分析功能，单台设备完成多维度检测。

智能操作界面：10.1英寸触控屏+一键式自动对焦/调平，新手30分钟可上手。

低维护成本：永磁式电磁透镜免维护，灯丝寿命≥1,500小时（场发射枪≥3,000小时）。

快速成像：高速扫描模式（≥100帧/秒）捕捉动态过程，如材料相变或纳米颗粒生长。

数据兼容性：支持TIFF/JPEG/BMP图像导出及ASCII格式EDS数据，可对接ImageJ、Origin等分析软件。

安全防护：全封闭式铅玻璃观察窗+急停按钮，符合CE/FDA辐射安全标准。