工作原理

设备通过高分辨率CMOS传感器与专业显微物镜（支持明场/暗场/偏光模式）捕捉样品表面细节，结合电动载物台实现多区域自动扫描。图像经专用软件拼接处理，生成超大视野高清图像；深度学习算法可自动识别晶界、孔洞、裂纹等特征，并依据预设标准进行分类与定量分析。HUD-1000采用闭环对焦系统与光强校正技术，确保长时程测试的图像稳定性。

应用范围

该系统广泛应用于半导体行业晶圆缺陷检测（如划痕、污染）、生物医学领域细胞与组织切片分析（如肿瘤病理诊断）、精密制造中模具与电子元件的表面质量控制（如MEMS器件），以及科研机构新型材料（如二维材料、复合涂层）的微观结构解析。典型应用包括材料失效分析、工艺优化验证及产品研发阶段的形貌特征比对，覆盖从实验室到生产线的全流程检测需求。

产品技术参数

传感器：4K分辨率CMOS（像素尺寸1.85μm）

物镜：5×-100×（支持明场/暗场/偏光）

扫描范围：最大200×200mm（电动载物台）

成像速度：≥30帧/秒（全分辨率）

分析功能：自动晶界识别、孔洞面积统计、裂纹长度测量

样品要求：最大厚度50mm（支持透明/不透明样品）

电源：220V±10%，50/60Hz，功率≤800W

尺寸：1200×800×1800mm（主机），重量≈450kg

软件功能：图像拼接、三维重建、符合ISO/ASTM标准，支持LIMS系统对接与多语言界面（中/英/日），内置AI特征识别库。

产品特点

超高清成像与智能分析：4K传感器结合深度学习算法，可识别微米级缺陷；自动生成检测报告，减少人工判读误差。

全自动化与高效性：电动载物台支持预设路径扫描，单样品分析时间缩短至5分钟；标配96位自动进样器，适配批量检测需求。

多模式兼容与扩展性：支持明场/暗场/偏光切换，可选配共聚焦、拉曼光谱模块，适配多样化分析场景。

安全性与耐用性：配备紧急停机保护、光强自动调节功能；核心部件采用防抖设计，寿命≥50000小时，维护成本低。

用户友好与合规性：触控式界面支持一键式操作，内置教学视频与故障排查指南；符合CE与RoHS标准，确保实验室操作安全。