工作原理
ARL3460采用帕邢-龙格光学系统,配备一米焦距真空光室,通过连续抽真空技术维持30μmHg以下真空度,消除空气对紫外波段谱线的吸收干扰。其核心HiRep(高重复率)火花光源可产生单向低压脉冲,仅激发样品表面,避免电极自身干扰,同时通过高能预火花(HEPS)技术熔化样品表面,消除冶金组织不均性对分析结果的影响。聚光透镜前设有微机控制快门,仅在积分阶段开启,防止预熔阶段金属颗粒溅射损伤光学元件。
应用范围
该设备可分析Fe、Cu、Al、Mg、Ni等20余种金属及合金,覆盖钢中氮、铜中氧、铝合金中痕量元素等高难度检测场景。在钢铁行业,用于炉前快速成分控制;在航空航天领域,支持高温合金中钛、铌等元素的精准测定;在汽车制造中,可检测镀层厚度及材料均匀性,确保零部件性能一致性。
技术参数
波长范围:120-860nm,支持60个分析通道
分辨率:≤0.01nm(紫外区)
光源类型:HiRep火花光源,重复率≥500Hz
检测器:Φ28mm大直径光电倍增管,信噪比≥1000:1
分析时间:≤45秒/样品(含预熔与积分)
氩气消耗:3.5L/min(分析时),0.35L/min(待机)
产品特点
高稳定性:光谱室恒温控制(38±0.1℃),配合防震设计与动态安装光栅,确保长期分析重复性≤0.5%。
低维护成本:自循环水冷系统与长寿命钨电极(激发≥1000次无需整形),减少停机时间。
智能软件:OXSAS软件集成2000余种国际标样数据库,支持一键调用分析模板,自动修正基体效应与光谱干扰。
扩展性强:可选配EDX能谱模块实现元素面分布分析,或升级激光共聚焦模块检测镀层厚度。