工作原理

LAP-2000X采用中心加载力方式，通过气动系统对六个试样同时施加压力，确保磨抛过程中受力均匀。设备配备双磨抛盘（标配φ250mm），支持正反转切换，转速范围100-1000转/分，可自定义三段定速（如300/500/800转/分）或八段编程速度。研磨头转速30-200转/分，压力范围30-200N，通过电磁阀控制水阀通断，结合自动喷水装置清洗磨盘，避免残留物影响精度。

应用范围

设备适用于多场景金相制备需求：

冶金行业：金属材料（钢、铝、铜）的粗磨、精磨及抛光；

机械制造：模具、齿轮、轴承的表面精加工；

航空航天：高温合金、钛合金的精密抛光；

科研教学：材料表面改性、涂层附着力测试的试样制备；

质量检测：来料检验、失效分析的试样处理。

产品技术参数

磨抛盘配置：双盘（标配φ250mm，选配φ230/220mm）；

转速范围：磨盘100-1000转/分，研磨头30-200转/分；

加载方式：中心气动加载（30-200N）；

试样容量：标配6个φ30mm试样（选配φ40-50mm）；

控制模式：手动三段定速/自动八段编程；

电源要求：AC220V，50/60Hz，功率0.75Kw；

设备尺寸：700mm×730mm×350mm；

重量：74kg；

执行标准：GB/T 16743、ISO 17639。

产品特点

双盘高效处理：支持同时加工6个试样，大幅提升制备效率；

精准压力控制：气动加载确保磨抛压力稳定，重复精度高；

编程自动化：八段速度编程与自动停机功能，适配复杂工艺；

易更换磁性盘：磁性防粘盘设计，快速切换砂纸/抛光布；

安全与耐用：全金属机身、自动清洗装置，降低维护成本；

合规与认证：符合GB/T 16743、ISO 17639标准，通过CE认证。