聚集离子-电子双束显微镜
用于金属、半导体等固体样品上制备微纳结构、精确定向制备高质量透射电镜样品等
主要用途
聚焦离子/电子双束电镜可用于金属、半导体等固体样品上制备微纳结构、精确定向制备高质量透射电镜样品等。结合附件可实现样品元素分布、相分布和晶粒取向等多种微观结构分析。
项目介绍
设备参数/指标
l 电子束和离子束最佳工作距离分辨率：
≤0.7 nm @ 1kV（非减速模式）
l Ga离子束分辨率：≤2.5 nm @ 30 kV
l EDS探测器能量分辨率：Mn Kα保证优于127 eV
l 元素分析范围：Be4～Cf98
l EBSD标定速率：在线标定速度高达400 点/秒
l 纳米机械手最小步长：≤50 nm
l 样品台倾转角度：-10°~60°
功能配置
l 内置二次电子/背散射电子探测器
l ICE 二次离子探测器
l 铂/碳沉积气体
l 液态Ga离子源
l EDS/EBSD
l 三维重构
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京公网安备 11010702002294号
