工作原理
BH200M采用有限远色差校正光学系统,通过长工作距平场消色差物镜与高眼点大视野目镜的组合,实现光线的高效汇聚与色差校正。其核心的落射式柯拉照明系统配备防反射结构,可消除光线反射干扰,确保成像清晰度与视场衬度。设备支持明场、简易偏光等多种观察模式,配合6V/30W卤素灯或LED光源,光强连续可调,适应不同材料的检测需求。
应用范围
覆盖金属材料(如碳钢、合金钢、铝合金)的金相组织分析、半导体硅晶片缺陷检测、地质矿物成分鉴定及精密工程测量等领域。在工业场景中,可用于铸件质量评估、热处理效果验证及原材料检验;在科研领域,支持材料微观结构研究及失效分析,是实验室与生产线的理想检测工具。
技术参数
放大倍率:50X-1000X(标配5X、10X、20X、50X物镜,可选配100X物镜)
目镜:PL10X/18mm高眼点平场目镜,支持测微尺安装
载物台:复合式双层机械平台,移动范围76mm×50mm,附设180mm×145mm平板平台
调焦机构:低位同轴粗微调,粗调行程28mm,微调精度0.002mm,带机械限位与松紧调节装置
照明系统:反射式柯拉照明,自适应100V-240V宽电压,支持黄、绿、蓝、磨砂滤色片切换
产品特点
成像卓越:平场消色差设计消除像差,成像清晰平坦,视域开阔
操作便捷:低位调焦机构与载物台同轴调节设计,符合人机工程学,减少操作疲劳
扩展性强:三目观察筒支持20%分光比,可适配0.35X-1.0X摄像接筒,兼容数码相机与图像分析软件
耐用可靠:全金属机身结构稳固,防腐蚀涂层延长使用寿命,整机质保期1年,提供免费培训服务