工作原理
GX-7C基于无限远校正光学系统,光源从下方照射样本,光线通过物镜后形成实像,经三目观察筒或数码设备传输。设备内置编码器,可自动识别物镜倍数并同步调整光学路径,确保放大倍数切换时图像清晰。支持明场、偏光、荧光(可选)等多种观察模式,通过调节载物台与物镜位置,可清晰呈现样本晶粒结构、缺陷或相变特征。
应用范围
适用于冶金行业(如金属晶粒度评级、焊接接头分析)、半导体制造(如晶圆缺陷检测、薄膜均匀性检验)、材料科学(如相变研究、纳米材料表征)及工业质检(如精密零件表面质量控制)。其研究级设计尤其适配高校实验室、科研院所及高端工业检测场景。
产品技术参数
光学系统:无限远校正光学系统,支持明场/偏光/荧光模式
物镜配置:5×(NA 0.15)、10×(NA 0.30)、20×(NA 0.45)、50×(NA 0.65)、100×(NA 0.90)物镜
目镜:超宽视野平场目镜10×(视野直径≥25mm),视度可调(±5D)
编码器控制:自动识别物镜倍数,同步调整光学路径与标尺
载物台:电动升降载物台(行程30mm),X/Y轴电动移动(范围100mm×100mm,精度0.1μm)
光源:100W卤素灯(亮度可调,寿命≥2000小时)+ LED荧光光源(可选)
数码接口:C型接口,支持500万像素科研级CCD与图像分析软件
仪器尺寸:650×600×850mm,净重95kg,电源AC 220V/50Hz(功耗≤350W)
产品特点
研究级光学性能:无限远校正系统消除像差,100×物镜(NA 0.90)适配高分辨率观察需求,如纳米材料表征。
编码器智能控制:自动识别物镜倍数并同步调整标尺,消除手动校准误差,提升检测效率。
多模式观察:支持明场、偏光、荧光模式切换,适配金属相变、半导体缺陷、生物样本等多种分析需求。
数字化扩展:集成500万像素CCD与专业分析软件,可进行晶粒统计、缺陷标注及数据导出,满足科研级分析要求。
稳定与耐用:金属机身结构稳固,电动载物台升降平稳,适应高强度实验室使用场景。