干涉显微镜
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干涉显微镜
来源:上海光学仪器六厂
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简介: 上海光学仪器六厂干涉显微镜6JA是一款基于光学干涉原理的高精度表面形貌测量仪器。该设备通过光波干涉现象,可非接触式检测样品表面微观形貌、薄膜厚度及光学平整度,适用于半导体制造、精密机械、材料科学及科研领域,为用户提供纳米级分辨率的定量分析解决方案。
产品详细

SOIF


工作原理

6JA采用迈克尔逊干涉结构,光源发出的光束经分光镜分为参考光束与测量光束。参考光束通过固定反射镜返回,测量光束照射样品后反射,两束光在分光镜处汇合产生干涉。通过调节物镜与样品距离,观察干涉条纹变化,结合相位检测或频域分析技术,将干涉信号转换为表面高度数据,实现纳米级形貌测量。



应用范围

适用于半导体行业(如晶圆表面平整度检测、薄膜厚度测量)、精密机械(如轴承表面粗糙度分析、光学元件波前检测)、材料科学(如纳米材料形貌表征、涂层均匀性检验)及科研实验(如表面等离子体共振研究)。广泛服务于芯片制造厂、质检中心及高校实验室,助力工艺优化与质量控制。



产品技术参数


测量原理:迈克尔逊干涉法

光源:He-Ne激光器(波长632.8nm,功率2mW)

放大倍数:10×(物镜)与10×(目镜),总放大倍数100×

测量范围:垂直方向0-100μm,水平方向10mm×10mm

分辨率:垂直方向0.1nm(RMS),水平方向0.5μm

扫描方式:压电陶瓷驱动(步进精度1nm)

数据接口:USB 3.0(支持实时图像传输与软件分析)

仪器尺寸:450×320×600mm,净重25kg

电源:AC 220V/50Hz(功耗≤150W)


产品特点


纳米级测量精度:垂直分辨率达0.1nm,适配半导体晶圆、光学元件等高精度检测需求。

非接触式无损检测:避免接触式测量对样品的损伤,尤其适配软质材料或薄膜样本。

实时干涉成像:通过CCD相机实时捕捉干涉条纹,结合软件算法快速生成三维形貌图。

模块化扩展:支持相位检测、频域分析等多种模式,适配不同表面特性研究需求。

稳定与耐用:金属机身结构稳固,激光光源寿命长(≥10000小时),适应工业与实验室环境。

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标签:干涉显微镜,物理检测设备
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