工作原理

51XA-PC基于偏光显微镜原理，利用起偏器产生偏振光，经样品后由检偏器分析。当样品为各向异性材料（如金属晶体）时，偏振光发生双折射，形成干涉图像；明场模式则通过常规透射光成像，清晰显示样品表面细节。设备支持偏光与明场模式切换，满足多样本分析需求。

应用范围

适用于金属材料组织分析（如晶界、相组成）、矿物鉴定（如双晶结构）、陶瓷材料缺陷检测，以及高分子材料取向研究。广泛服务于冶金、地质、材料科学领域的教学、科研及工业质检，助力材料性能评估与工艺优化。

产品技术参数

物镜配置：5×、10×、20×、50×（无限远消色差）

总放大倍数：50X-1000X

观察模式：偏光/明场可切换

载物台：双层机械式（180×160mm，移动范围80×50mm）

光源：卤钨灯12V30W（亮度可调）

滤色片：绿、蓝滤光片（插板式）

聚光镜：阿贝聚光镜1.25NA

摄像头接口：支持500万像素数字成像

电源：AC 220V/50Hz

产品特点

双模式成像：偏光观察双折射现象，明场显示表面细节，满足多维度分析需求。

高精度光学系统：无限远消色差物镜，消除像差，提升图像清晰度。

人性化操作：30°铰链式观察筒、可调目镜（屈光度±5D），减少操作疲劳。

耐用设计：不锈钢组件与防腐蚀结构，适应实验室与工业现场双场景。

数字化扩展：支持500万像素摄像头与图像分析软件，实现定量测量与数据保存。