设备介绍

此款CVD气相沉积系统的工作温度为≤1100℃，配备真空泵，气体混合装置。采用了温度控制系统，高温精度，出色的气体流量精度，易于操作，有非常好的隔热效果和温度均匀性。该CVD管式炉适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、材料的气氛烧结等实验。主要用于大学，研究中心和生产企业进行气相沉积相关的实验与生产。

产品优势

高纯氧化铝纤维炉膛

发热元件采用优良电阻丝，炉膛采用陶瓷纤维材料，保温性能好，经久耐用，抗拉强度高，无杂志，纯度高，节能效果明显

双层外壳结构 配备冷风系统

双层钢制外壳，带双冷却风扇，炉壳温度始终保持在安全范围内，上开启打开炉门，操作方便

PID智能温控系统

内置PID自动调节功能，具有过热和断开热电偶断开保护; 超温保护和报警

技术参数

设备名称 CVD管式炉

设备型号 KJ-TCVD1200-S50CK1

最高温度 1200 ℃

工作温度 ≤1100℃

显示 触摸屏

炉管尺寸 外径50mm，总长度600m(其他尺寸可按需求定制)

管材 石英

热区长度 200mm(单温区)

(其他尺寸可按需求定制)

加热元件 电阻丝

加热速率 0-10℃/min

温度控制

● 30个可编程段，用于控制加热速率、冷却速率和停留时间。

● 内置PID自动调节功能，具有过热和热电偶损坏保护功能。

● 超温保护和报警

热电偶

N型

温控精度 ±1℃

炉体材质 炉体整体304不锈钢，下箱碳钢

炉膛结构

双层钢制外壳，带双冷却风扇

真空法兰 不锈钢密封水冷法兰

供气系统

1通道质子流量计： 气路：一路氮气

流量控制：触屏控制(选配)

真空泵+真空计系统

真空泵+真空计 旋片泵，极限真空度达到10Pa(冷却状态)

压力表 机械压力表