设备介绍

LCD触摸屏CVD高温炉是一款适用于CVD工艺的高温管式炉，采用双层壳体结构，并带有风冷系统，用于降低壳体表面温度;采用PID30段可编程序智能控温，移相触发;炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，保温性能好，温场均衡;智能控温不需要人看守。这款CVD炉可用于碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。

产品优势

带风冷系统的双层壳体

采用双层壳体结构，并带有风冷系统，使得壳体表面温度始终保持在安全范围内，内炉膛表面涂有进口氧化铝涂层材料提高反射率及炉膛洁净度

可设置30段升降温程序

控温系统采用PID方式调节，可以设置30段升降温程序，控温精度可以达到±1℃。

优良的动密封系统

炉管与法兰之间采用硅胶O型圈挤压密封、撤卸方便，密封性强，不锈钢金属法兰，带阀门和相关接口，可抽真空充保护气体。

技术参数

设备名称 LCD触摸屏CVD高温炉

设备型号 KJ-TCVD1100-S80CK1W

高温炉壳体 采用双层壳体结构，并带有风冷系统，内炉膛表面涂有进口氧化铝涂层材料提高反射率及炉膛洁净度

加热元件 电阻丝

最高温度 1200℃

工作温度 ≤1100℃

升温速率 1-10 ℃/min

炉管材质和尺寸 石英管: 直径:80mm x 长度:1000 mm (其他尺寸可按客户需求定制)

加热区长度 总加热区440mm

控制方式 LCD液晶触屏

热电偶 N型热电偶，3个校准热电偶测量的温度直接显示在炉体的液晶显示屏上

控温系统 PID30段程序化控温

控温精度 +/- 1 ℃

真空密封系统 两个不锈钢密封法兰(上面已安装真空计和截止阀)

高真空站结构 高真空站控制面板(基本用于分子泵速度和真空水平)：

内部：涡轮分子真空泵站

涡轮泵和前级泵-干泵和石英管之间的所有连接、配件和阀门截面均符合KF-25连接标准。

真空度 6.7*10-3PA(空置、室温条件下)

混气系统 三个质量流量计

三路质量量程

含机械压力表、针阀、燃气通道、燃气混合阀、截止阀及配件等。

彩色屏控制，阀门材质为不锈钢

售后服务 质保一年，终身保修