设备介绍

该高温CVD管式炉工作温度为300℃至1600℃，配备真空泵，气体混合装置。采用温度控制系统，高温精度，出色的气体流量精度，易于操作，出色的隔热效果和温度均匀性。本系列CVD化学沉积系统主要用于真空或气氛烧结、基片镀膜等要求加热温度较高的实验环境。适用于大学，研究中心和生产企业进行气相沉积相关的实验与生产。

产品优势

智能温控

可控硅自动控温，移相触发，30段可编程PID智能控制

安全防烫

双层炉壳结构，装有风冷系统用于降低壳体表面温度，保证了操作人员的安全。

结构合理

304不锈钢双层密封法兰，两端可调节法兰支撑结构，延长炉管使用寿命

超温保护及预警

过热和断偶保护，超温保护蜂鸣器警报

耐腐蚀石英管

炉管采用高纯石英，耐高温耐酸碱，透明炉管可更好观察样品反应情况

技术参数

产品名称 高温CVD系统

产品型号 KJ-T1600

结构 碳钢外壳

双层氧化铝纤维板

1600度氧化铝纤维板

1800度氧化铝纤维板

冷却风扇

炉管 刚玉管OD.80mm×Len.1000-1200mm

外径80mmx长度1000-1200mm

(其他尺寸可按客户需求定制)

密封 带胶圈法兰(带有指针式压力表)

加热区长度 440mm (其他尺寸可按客户需求定制)

工作温度 ≤1600℃

温度传感器 B型热电偶

温度控制 可控硅自动控温

移相触发

30段可编程PID智能控制，过热和断偶保护

超温保护蜂鸣器警报

加热速率 建议：≤10℃/min

控温精度 +/-1℃

加热元件 硅钼棒

真空计

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带测量单位Torr

真空泵

极限真空度 3pa