设备介绍

此款定制高温气相沉积系统由高温沉积室、升华室、供气系统及真空系统组成。该CVD高温管式炉主要用广泛应用于半导体工业中沉积薄膜材料，包括大范围的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料、二维材料等，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。

产品优势

超温保护和报警

有超温保护和报警，及过热和热电偶断裂保护功能，允许在无人值守的情况下运行

30段智能PID程序控温

控温系统采用PID方式调节，可以设置30段升降温程序，控温精度可以达到±1℃

法兰采用双环密封技术

有效的提高了法兰的气氛性，法兰上装有多种接头，可接电阻真空计、真空波纹管并能做成容易撤卸的铰链式

技术参数

产品名称 定制高温CVD系统

沉积炉

产品型号 KJ-T1500CVD-DZ

炉膛模式 开启式

炉膛材料 氧化铝耐火纤维

加热元件 U型硅钼棒

极限温度 1600℃高温区

工作温度 ≤1500℃高温区

升温速率 ≤10℃/min

加热温区 单温区、双温区、多温区，可根据需求选择

温区总长度 200mm、300mm、400mm可选

(其他尺寸可根据客户需求定制)

炉管材质 刚玉管

炉管直径 40mm、50mm、60mm、80mm、100mm可选

(其他尺寸可根据客户需求定制)

密封方式 定制不锈钢真空法兰一套(含密封硅胶圈)

底部法兰有三个进气口 方便进气

底部法兰加支架 方便工件放在沉积炉低温区

控制模式 每个温区单独 30段智能PID程序控温

温度曲线 多段"时间—温度曲线"任意可设

测温元件 B型双铂铑热电偶

供气系统 集成在控制柜上

气体通道 可同时连接多种气源

流 量 计 浮子流量计

A路量程 1L/MIN

B路量程 1L/MIN

C路量程 1L/MIN

气路压力 -0.1～0.15 MPa

截止阀 不锈钢材质

气体连接管 1/4不锈钢管

气化炉A、B

最高温度 700℃

工作温度 ≤500℃

炉膛尺寸 定制

开门方式 上开

进气口 一个进气口

出气口 一个出气口

售后服务 12个月质保(易耗件及人为损坏除外)，终身保修