工作原理

BEM-50MW 采用无限远光路设计，光线经物镜后形成平行光束，通过镜筒内的分光棱镜实现三目观察与成像系统同步运行。其核心光学模块包含平场消色差物镜组（4×-100×）与高数值孔径（NA 0.9）的 100× 油镜，配合柯勒照明系统，可消除像散与场曲，确保在 25mm 视场内实现均匀照明。设备支持明场、暗场、相差及荧光观察模式，荧光模块配备六工位激发转盘与 UV/蓝/绿三色滤光片，通过电动光闸控制激发光强，避免光毒性损伤样本。

应用范围

该设备广泛应用于金属材料金相分析、半导体晶圆缺陷检测、生物组织切片观察及荧光标记样本成像。例如，在材料科学领域，可定量分析晶粒尺寸与析出相分布；在生物医学领域，支持 FISH 荧光原位杂交与免疫组化检测，搭配 1200 万像素冷 CCD 相机可实现活细胞动态追踪。

技术参数

光学系统：无限远校正 UIS2 系统

物镜配置：4×（NA 0.1）、10×（NA 0.25）、40×（NA 0.65）、100×（NA 0.9 油镜）

载物台：352mm×256mm 超大型平台，双向 200mm 电动移动行程

调焦系统：25mm 粗微动调焦，微调格值 0.002mm

照明系统：6V20W 卤素灯与 LED 双模式，亮度连续可调

图像输出：支持 HDMI 与 USB 3.0 双接口，兼容 4K 分辨率显示

产品特点

高精度成像：采用德国进口直线电机驱动载物台，重复定位精度≤0.5μm，确保多层样本精准对焦。

智能化操作：配备 10.1 寸触摸屏与可编程功能按键，可存储 20 组参数设置，支持一键切换观察模式。

模块化扩展：可选配长工作距离物镜、数码摄像头及专业图像分析软件，升级为数字显微分析系统。

环境适应性：IP21 防护等级设计，可在 10-40℃、湿度≤80% 环境下稳定运行，满足车间与实验室多场景需求。