简介： 该立式双温区CVD系统主要由：1200度双温区管式炉、3通道质量流量计供气系统、2L/S抽速真空泵及相关连接件组成;设备下方加装定向轮和万向轮，设备整体占地尺寸小并可灵活移动。该设备适用于CVD工艺，主要用于大学，研究中心和生产企业进行气相沉积相关的实验与生产。