石墨烯生长炉PECVD设备
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石墨烯生长炉PECVD设备
来源:河南鸿炉机械设备有限公司
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简介: KJ-T1200-S60LC-H2石墨烯制备机是由KJ-T1200开启式滑轨管式炉、真空系统、质量流量计气路系统、等离子电源系统组成。可适用于石墨烯生长等。
产品详细
石墨烯生长炉PECVD设备

设备介绍

KJ-T1200-S60LC-H2石墨烯制备机是由KJ-T1200开启式滑轨管式炉、真空系统、质量流量计气路系统、等离子电源系统组成。数字质量流量控制系统是由多路质量流量计,流量显示仪等组成,实现气体的流量的精密测量和控制;炉管连接部分采用KF快速法兰密封,装卸方便快捷;管路采用世界卡套连接,不漏气;触屏操作,操作简单方便。这款PECVD等离子沉积设备可适用于石墨烯生长等。

产品优势

成品质量好

具有基本温度低、沉积速率快、成膜质量好、针孔较少、不易龟裂等优点

更好的沉积效率

PECVD比普通CVD具有更高的化学气相沉积速率、更好的均匀性、一致性和稳定性

真空可达10Pa

真空系统由旋片真空泵和进口数显真空计组成,最高真空可达10Pa

技术参数

产品名称 石墨烯生长炉PECVD设备

开启式滑轨管式炉部分

产品型号 KJ-T1200-S60LC-H2

炉管尺寸 直径60mm*长度1600mm(其他尺寸可根据客户需求定制)

加热区长度 300mm(其他尺寸可根据客户需求定制)

工作温度 ≤1100℃

最高温度 1200℃

温控方式 N型热电偶

控制方式 温度控制系统采用触屏操作,人工智能调节技术,具有 PID 调节、自整定功能并可编制 30 段升降温程序;

控温精度 ±1℃

温控保护 具有超温和断偶保护功能

升温速率 建议≤10℃/min

加热元件 含钼电阻丝

炉膛材料 氧化多晶纤维

密封系统 该炉炉管与法兰之间采用硅胶O型圈挤压密封、撤卸方便、可重复撤卸,气密性好。

炉体结构 滑轨结构,可以实现快速降温

炉 管 石英炉管

真空系统部分

名称 真空系统

主要参数

采用旋片真空泵和进口数显真空计组成,真空度可达10Pa

名称 四路质量流量计

主要参数 四通道精密质量流量计:触屏控制,数字显示。

进出气口:4进1出

等离子电源部分

名称 500W等离子电源

功率范围 0-500W(连续可调)

工作频率 13.56MHZ+0.005%

冷却方式 风冷

售后服务 整机质保一年,终身保修(加热元件、密封圈等随机赠送配件不属于质保范围)
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标签:石墨烯生长炉PECVD设备,石墨烯生长炉
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