石墨烯CVD生长炉
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石墨烯CVD生长炉
来源:河南鸿炉机械设备有限公司
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简介: 适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、二维材料生长、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。
产品详细
石墨烯CVD生长炉

设备介绍

KJ-T1200-S60K1-3Z是郑州科佳电炉研发生产的一款CVD管式炉,是用于石墨烯制备的专用石墨烯薄膜生长炉。炉底采用滑轨式设计,可以手动左右移动炉子,使炉管暴露在室温环境下,得到快速的降温速率。本设备同样适用于也同样适用于要求升降温速度比较快的CVD实验。

产品优势

滑轨式设计 可快速降温

炉底滑轨式设计,可以左右移动炉子,使炉管暴露在室温环境下,得到快速的降温速率

高纯石英炉管

炉管采用高纯石英材质,耐高温耐酸碱腐蚀,热稳定性好

双层壳体加装风冷系统

双层壳体上开启结构,取放炉管方便,装有风冷系统,炉子外壳温度保持安全范围内

技术参数

滑轨管式炉

炉体结构 滑轨式

最高工作温度 1200℃

持续工作温度 ≤1100℃

加热速率 建议≤10℃/min

加热区长度 300mm 单温区 (其他尺寸可按客户需求定制)

加热元件 含钼电阻丝

热电偶 N型

控温精度 ±1℃

炉管直径 Φ50,Φ60,Φ80都可用 (其他尺寸可按客户需求定制)

炉管材质 高纯石英管

温度控制器 PID智能程序控温

真空法兰 真空法兰采用304不锈钢制作

左端法兰上安装由不锈钢针阀和一个球阀。右端法兰设计为KF25接口,配有挡板阀和两个KF25卡箍

注:法兰可选结构,标准螺丝法兰,快接KF法兰,铰链法兰

真空泵系统

旋片真空泵带数字真空计(包含KF25接口和可移动箱体):

极限真空度 10-3 Torr.

炉管内真空度 10-2 Torr.

备注:用户可根据真空度要求不同可选用旋片真泵、扩散泵组,分子泵组

质量流量计

3路高精度质量流量计:

底部安装有一个混气罐,左侧安装有3个不锈钢针阀,可手动控制3种气体的流量。

注意事项

炉管内气压不可高于0.02MPa

· 由于气瓶内部气压较高,所以向炉管内通入气体时,气瓶上必须安装减压阀,建议在本公司选购减压阀,本公司减压阀量程为0.01MPa-0.1MPa,使用时会更加准确安全

· 当炉体温度高于1000℃时,炉管内不可处于真空状态,炉管内的气压需和大气压相当,保持在常压状态

· 进入炉管的气体流量需小于200SCCM,以避免冷的大气流对加热石英管的冲击

· 石英管的长时间使用温度<1100℃

对于样品加热的实验,不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热,则需时刻关注压力表的示数,若气压表示数大于0.02MPa,必须立刻打开泄气阀,以防意外发生(如炉管破裂,法兰飞出等)

售后服务

质保一年,终身保修(耗材类:高温密封圈、炉管、加热元件等不属于质保范围)
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标签:石墨烯CVD生长炉,CVD生长炉
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