设备介绍

KJ-T1200大口径CVD管式炉是一种具有60mm直径石英管，真空泵和三通道质量流量计气体流动系统的可拆分管式炉。 它可以混合1-3种气体.该系列化学气相沉积系统用于CVD或扩散包括大范围的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料、二维材料等，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。也可用于：真空烧结、真空气氛保护烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多研究领域。

产品优势

双层壳体上开启结构

双层壳体上开启结构，取放炉管方便，装有风冷系统,炉子外壳温度保持安全范围内

30段高精度可编程温控

控温系统采用PID方式调节，30段高精度数字可编程温度控制器

触屏操作简单快捷

采用触屏操作系统，数据可存储可通过EXCEL输出

技术参数

型号 KJ-T1200-CVD

显示 液晶显示屏

第一部分 管式炉部分

炉膛 分体式和上部可以打开

最高工作温度 1100°C

加热速率 建议：0~10℃/ min

加热温区 500mm(其他尺寸可根据客户需求定制)

加热元件 钼电阻丝

温度控制精度 ±1℃

炉管尺寸 外径200mm *长度1200mm

(其他尺寸可根据客户需求定制)

温度控制器 30段高精度数字可编程温度控制器

第二部分 混气系统

流量计 LCD触摸屏

更多规格可根据需求定制