设备介绍

真空RTP退火炉是一款真空度比较高的快速热处理管式炉，配有石英腔体和真空法兰，采用卤素灯加热，升温速度可达50℃/秒，PID自动控制，30段可编程序，它是专为半导体或太阳能电池基片的退火而设计。该高温退火管式炉可在真空、气氛环境下，对样品进行快速热处理，主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，如：薄膜沉积，不同材料快速退火、硅化、扩散、晶化和致密化等。

产品优势

卤素灯加热 升温速度快

加热元件采用卤素灯加热，升温速度可达50℃/秒

底部滑轨设计 实现快速冷却

炉子的底部安装有一对滑轨，可使炉子从炉管的一侧滑动到另一侧，以实现快速加热和快速冷却

30段高精度数字可编程

30段高精度数字可编程温度控制器，控温精度高，可达±1℃

技术参数

产品名称 RTP 快速退火炉

工作温度 900℃

控 制 器 LED(可选配LCD触屏)

炉 膛 开启式 滑道式

炉管尺寸 根据需求尺寸定制

加热元件 卤素灯

升温速率 ≤50℃/S

热 电 偶 根据实际需要设计来配

温度控制器 30段高精度数字可编程温度控制器

特殊要求

具体细节可根据客户需求定制(详情欢迎来电咨询我们)

1、可定制真空系统

2、可定制气路系统

3、其他特殊工艺需求