（E-Beam Evaporator System）

电子束蒸发镀膜系统（E-Beam Evaporator System）是由美国专业制造商生产的高性能薄膜制备设备，适用于薄膜半导体材料的制备。该系统具备电子束蒸发、热阻蒸发、离子束辅助蒸发镀膜（IBAD）和泻流源等多种功能模式。其技术参数包括304不锈钢圆柱形腔体（标准直径18英寸和24英寸）、分子泵或冷凝泵真空系统、手动或自动传片的Load Lock（适合200mm以下样品）、PC/PLC自动控制界面、QCM和光学膜厚监控、RGA残余气体分析、多种衬底夹具（单片、多片、行星式）以及可加热、冷却、偏压和旋转的衬底支架。此外，系统还支持多种沉积技术，包括射频、直流和脉冲直流磁控溅射、电子束蒸发、热蒸发、有机蒸发（用于OLED/PLED和有机电子）、倾斜角沉积（GLAD）和阴极等离子体辅助沉积，能够满足从研发到生产的多样化需求。

仪器介绍:

美国专业的制造商，拥有20多年丰富的经验在：电子束蒸发设备、磁控溅射设备、热蒸发设备等。有以下功能模式：

electron beam evaporation， 电子束蒸发；

resistive evaporation，热阻蒸发；

ion beam assisted deposition (IBAD)， 离子束辅助蒸发镀膜；

effusion cell，泻流源。

技术参数：

Vacuum Chamber: 304不锈钢圆柱形腔体，标准直径有18英寸和24英寸 –   scaled to match the specific application；

Pumping: 分子泵或冷凝泵；

Load Lock: 手动传片或自动传片,适合各种形状尺寸的小片到200mm大的圆片，高真空背景传递；

Process Control: PC / PLC自动控制界面，菜单控制，数据获取和远程控制 ；

In-Situ Monitoring & Control: QCM膜厚监控，光学膜厚监控；

RGA残余气体分析；

Substrate Fixture: 单片，多片，行星式衬底夹具；

Substrate Holders: 可加热，冷却，偏压，旋转；

Ion Source: 衬底预清洗，纳米表面改性。

Deposition Techniques:

Magnetron Sputtering  RF, DC, or Pulsed-DC，具有射频溅射，直流溅射，脉冲直流溅射；

Electron Beam Evaporation，电子束蒸发；

Thermal Evaporation，热蒸发；

Organic Evaporation for OLED/ PLED and Organic Electronics，有机蒸发（用于OLED/ PLED和有机电子）；

Glancing Angle Depostion (GLAD),倾斜角沉积

Cathodic Arc Plasma Deposition,阴极等离子体辅助沉积。