脉冲激光沉积系统

（Pulse Laser Deposition System）

这是一款美国原产的高性能脉冲激光沉积系统（PLD），用于制备高质量薄膜和研发新材料。系统通过高密度脉冲激光照射靶材，形成等离子体并沉积到对面的基板上，可获得热力学准稳定状态的薄膜。设备配备6个1-2英寸靶位，可自动旋转并由步进电机控制靶材选择；基板采用2英寸铂金加热片，加热温度可达1200℃，温差小于3%，可在氧气环境中旋转工作。成膜室和样品搬运室均为SUS304材质，本底真空度分别小于5×10⁻⁸ Pa和5×10⁻⁵ Pa，配备分子泵和机械泵，以及超高真空阀门和真空计。系统还具备薄膜生长监控（扫描型差分RHEED）、基板温度监控、靶材和基板旋转控制等功能，适用于多种薄膜制备需求。

原产国:美国

PLD脉冲激光沉积系统介绍:

PLD是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成新材料。

我们PLD系统拥有最好的性能价比,具体技术参数配置:

1.靶: 数量6个，大小1-2英寸，被激光照射时可自动旋转，靶的选择可通过步进电机控制;

2.基板:采用适合于氧气环境铂金加热片，大小2英寸，加热温度可达1200摄氏度，温度差<3%，加热时基板可旋转，工作环境最大压力是300mtorr;

3.基板加热电源，最高到1200度;

4.超高真空成膜室腔体:不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度<5e-8 pa;

5.样品搬运室:不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度<5e-5 pa;

6.排气系统:分子泵和干式机械泵;

7.阀门: 采用超高真空挡板阀;

8.真空检测:真空计;

9.气路两套: 采用气体流量计控制;

10.薄膜生长监控系统: 采用扫描型差分RHEED;

11.监控软件系统:基板温度的监控和设定，基板和靶的旋转，靶的更换等;

12.各种电流导入及测温端子;

13.其它各种构造:各种超高真空位移台，磁力传输杆，超高真空法兰，超高真空密封垫圈，超高真空用波纹管等