简介：
HT-TLF提拉法晶体生长炉是一种用于生长高质量单晶体的设备，可用于生长Al203,GGG,YAG,LaAlO3,Si,Ge和各种金属单晶等
HT-TLF提拉法晶体生长炉是一种用于生长高质量单晶体的设备，可用于生长Al203,GGG,YAG,LaAlO3,Si,Ge和各种金属单晶等
产品名称：提拉法晶体生长炉
工作电压:
输入电压：380V ,50HZ，三相
最大输出功率25KW
真空腔体:
304不锈钢真空腔体
真空腔体尺寸：Φ320*320mm
腔体上有石英窗口，便于观察材料熔化，种籽晶和长晶过程
提拉机构:
提拉机构次啊用精密伺服电机驱动
控制器控制提拉机构的提拉速度，转速和转速
提拉速度：0.4-15mm/hr
提拉干旋转速度：0.1-23RPM
移动行程：0-250mm
提拉机构可快速移动35mm/min
真空气氛:
真空腔体可抽真空和通入惰性气氛
真空度：5*10-6torr(采用分子泵系统)
5*10-2torr(采用机械泵)
控制面板:
触摸屏控制面板
可控制提拉速度，提拉行程，籽晶杆转速和工作温度
服务:
一年保质期，终身维护(设备相关耗材如O型圈，加热元件等不在保修范围内)
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京公网安备 11010702002294号
