机械抛光液制备设备
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机械抛光液制备设备
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简介: NP-CMP化学机械抛光液制备设备主要用于CMP(化学机械抛光液)(包括基于氧化硅纳米颗粒的抛光液、氧化铈纳米颗粒的抛光液、碳化硅化学机械抛光液、氧化铝体系和硅溶胶体系的超精密加工类化学机械抛光液)的分散和各种微纳米材料、新能源材料、无机阻燃剂等的破碎、分散、分级、改性等。
产品详细

机械抛光液制备设备


NP-CMP化学机械抛光液制备设备主要用于CMP(化学机械抛光液)(包括基于氧化硅纳米颗粒的抛光液、氧化铈纳米颗粒的抛光液、碳化硅化学机械抛光液、氧化体系和硅溶胶体系的超精密加工类化学机械抛光液)的分散和各种微纳米材料新能源材料、无机阻燃剂等的破碎、分散、分级、改性等。


NP-CMP化学机械抛光液制备设备经过测试的工艺路线,已经实现量产The tested process route has achieved mass production ;

智能控制,实时监测,完整数据存储,直观显示图、表Intelligent control, real-time monitoring, complete data storage, intuitive display of charts and tables;

转速可调,温度可控,超声波强度可调,可定时Rotating speed adjustable, Temperature controlled, Ultrasonic intensity adjustable, Timed ;

操作方便简洁,清洗容易 Easy and simple operation,easy to clean。


NP-CMP化学机械抛光液制备设备 参数:


Items实验型Experiment Type生产型Production Type

温度Temperature(℃)-30℃~80℃-20℃~80℃

分散方式Dispersion Type连续式continuous连续式continuous

材质Material quality玻璃、不锈钢、钛 glass or stainless steel不锈钢、钛stainless steel

规格Specification依容积depend on volume定制customized

流量Flow rate50~1000ml/min可定制customized

介质粘度media viscosity≤104cP≤104cP

搅拌转速agitation speed500~3000rpm依实际需求选择500~3000rpm依实际需求选择

剪切转速agitation speed1400~20000rpm依实际需求选择1400~12000rpm依实际需求选择

电源Power220V/50Hz220V/50Hz 、380V/50Hz

超声功率Ultrasonic power200~3000W定制customized

超声频率Ultrasonic Frequency20KHz、28KHz、40KHz、68KHz20KHz、28KHz、40KHz、68KHz

显示方式Display model数显、液晶触摸屏digital display,LCD touch screen 依据需要可选择液晶触摸屏LCD touch screen

温度、功率可调Temperature、power adjustment

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标签:机械抛光液制备设备,新能源材料设备
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