热阻蒸发薄膜沉积系统
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热阻蒸发薄膜沉积系统
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简介: DE400 热阻蒸发仪可配置多组蒸发源,连续旋转的样品台或可倾角自转样品台。
产品详细
热阻蒸发薄膜沉积系统

DE400 热阻蒸发仪可配置多组蒸发源,连续旋转的样品台或可倾角自转样品台。

特点

可选可倾角和自转基片台

样品台可选水冷或加热

可选手套箱

典型应用

用于薄膜沉积研发

LIFT-OFF工艺的理想平台

可蒸发金属,半导体、介质材料或有机材料

主要配置

真空泵 配备冷凝泵或分子泵和无油机械泵

真空阀门 高真空插板阀

蒸发源 多组热蒸发源

样品台 连续旋转的样品台或可倾角自转样品台

膜厚检测 晶振膜厚监控

真空测量 宽量程真空计

主要技术指标

极限真空度 优于5E-7Torr

基片尺寸 可选:2英寸、4英寸、6英寸、8英寸、12英寸

膜厚均匀性 优于+/-3%

蒸发速率分辨率 0.01 A/s

膜厚分辨率 0.1 A
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