高真空双室多功能镀膜设备
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高真空双室多功能镀膜设备
来源：沈阳科诚真空技术有限公司
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简介： 高真空双室多功能镀膜设备是一种集成了多种PVD(物理气相沉积)技术的先进镀膜系统，通过双腔室设计实现高效率、无污染、多工艺组合的薄膜制备。
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高真空双室多功能镀膜设备

高真空双室多功能镀膜设备是一种集成了多种PVD(物理气相沉积)技术的先进镀膜系统，通过双腔室设计实现高效率、无污染、多工艺组合的薄膜制备。

真空：极限真空6*10 -5 帕

工作真空6*10 -4 帕

恢复工作真空时间：连接手套箱≤10分钟

不连接手套箱，充干燥氮气≤30分钟

配有4坩埚电子束镀膜设备一套

金属蒸发源和有机蒸发源可按客户要求配置

膜厚探头及膜厚仪有国产或者进口可选

金属蒸发源配有1000w电源

有机蒸发源配有可控温电源，控温精度±1℃
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标签：高真空双室多功能镀膜设备,镀膜设备
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