脉冲激光镀膜设备
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脉冲激光镀膜设备
来源:沈阳科诚真空技术有限公司
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简介: 脉冲激光镀膜设备(PLD)是一种利用高能脉冲激光轰击靶材,使材料气化并在基片上沉积成膜的物理气相沉积(PVD)技术。
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脉冲激光镀膜设备

脉冲激光镀膜设备(PLD)是一种利用高能脉冲激光轰击靶材,使材料气化并在基片上沉积成膜的物理气相沉积(PVD)技术。

1. 溅射真空室组件1套,球型真空室尺寸Ф300mm,选用真空专用304#不锈钢材料制造氩弧焊接,表面进行喷玻璃丸处理。各法兰口按超高真空系统设计,采用金属密封。

2. 采用一套600L/S分子泵+4L/S机械泵通过CF150超高真空闸板阀进行主抽,通过CF35角阀旁抽。

3. 封接观察窗2个, Ф100石英玻璃窗口1个(248nm紫外波段,供激光入射用的)

4. 电磁隔断放气阀:(北京)KF40 1台。

5. 分子泵与机械泵连接金属波纹管 1套; 机械泵与真空室之间的旁抽金属波纹管管路及CF35角阀1套。

6. CF150闸板阀:用于分子泵与真空室隔离。

7. 真空测量及电控系统1套,ZDF数显复合超高真空计(全部采用金属规管)1台 。

8. 总控电源:为机械泵、真空计等提供电源,有断电断水缺相保护功能1套。

9. 机架:优质方钢型材(40mm×40mm×3),焊接成,,四只脚轮,可固定,可移动。

10. 附件相关规格的金属密封圈,氟橡胶密封圈全套不锈钢紧固螺栓、螺母、垫片等;全套无氧铜密封垫圈(相关规格)CF16:3个;CF35:3个;CF150:2个;CF100:4个;

11.相关的技术资料各类外购件使用说明书:设备结构原理图及关键部件结构图(1套)电控系统原理结构图(1套)装箱单(1套)设备出厂合格检验证明(1套

12.工作条件及主要技术参数:供电:~380V三相五线供电系统(容量5KW)。相对湿度;≤80﹪。
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