双室热蒸发镀膜设备
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双室热蒸发镀膜设备
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简介： 双室热蒸发镀膜设备是一种采用物理气相沉积（PVD）技术的精密镀膜系统，通过独立双腔室设计实现高效连续的薄膜制备。该设备主要应用于光学薄膜、电子器件、功能涂层等领域。
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双室热蒸发镀膜设备

双室热蒸发镀膜设备是一种采用物理气相沉积(PVD)技术的精密镀膜系统，通过独立双腔室设计实现高效连续的薄膜制备。该设备主要应用于光学薄膜、电子器件、功能涂层等领域。

该设备由金属热蒸发沉积室和有机热蒸发沉积室组成，包含4个金属蒸发源8个有机蒸发源。金属室附加一个手套箱，可使蒸发材料在保护气体的环境下放入蒸发源，也可使蒸镀好的样品在此取出。

样品通过小车在两个真空室之间实现传递。

每次可对四块样品进行蒸镀，并可在线掩膜两次。

每个蒸发源有独立挡板，防止交叉污染。
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