电阻式蒸发镀膜设备是一种利用电阻加热原理使镀膜材料蒸发，并在真空环境中沉积到基片表面形成薄膜的物理气相沉积(PVD)设备。
此设备主要通过电阻加热的方式，实现镀膜功能，一体式结构有效的节约空间。
适用范围：
主要适用于制备金属膜、介质膜、有机材料薄膜及扫描电镜制样等。
该设备操作简便，使用灵活，适合于高校及科研院所的教学与科研工作。
1.采用机械泵与分子泵的抽气系统，真空环境清洁。
2.极限真空：≤5.0x10-5Pa 。
3.恢复工作真空时间≤40min(≤6.0x10-4Pa)
4.配置金属蒸发源(钨极)，有机束源炉等;可在线测量膜层厚度。
5.样品可自转，可实现无间隙在线掩膜2次;样品可在线升降，以满足最佳的镀膜工艺要求。
6.蒸发电源采用1带二模式，电控切换。
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京公网安备 11010702002294号
