一、设备性能：
镀膜设备以蒸发源为主体，适用于实验室制备金属单质、氧化物等，也可用作教学及生产线前期工艺试验等，整套设备操作简便，综合功能多，扩展空间大，适合及满足大专院校的教学与科研工作。
二、设备基本结构及主要技术指标：
镀膜设备由真空室腔体，蒸发源系统，样品台系统，
真空泵机组，膜厚检测系统，设备机架和电控系统组成，采用一体化的设计方案，整套设备结构紧凑、布局简洁，避免实验设备外观凌乱的现象。
1、真空室腔体：1套
外形：优质304不锈钢方形前后开门真空室腔体1套，内部尺寸长1500*宽900*高800mm，门采用铰链式方门，方便清洗真空腔体，真空室内部调试，维修以及取放物品，门配DN100视窗1套;
底部：蒸发源接口1套，美国MCVAC水冷膜厚探头接口1套;
顶部：样品台接口1套，美国MCVAC水冷膜厚探头接口1套，预留法兰若干;
侧壁：JFTB-1600Z分子泵接口2套，CCQ-100CF气动超高真空插板阀1套，CF25照明接口4套，GDQ-J16B-KF高真空气动挡板阀接口1套，蒸发隔离翻版接口2套，预留法兰若干;
腔体漏率：整体漏率优于5×10-10Pa.m3/S，保压12小时，压强小于10Pa。
2、蒸发源系统：1套
水冷
铜电极4组，接入电源，电极安装蒸发源绝缘框架，框架上孔若干，可安装钼电极，电极可调节高度，电极可安装蒸发舟(钨、钼，钽舟，螺旋丝)若干，可蒸镀金属和氧化物等;
配直流电源1台，数字显示，可按需求调节电流大小;
隔板：蒸发源采用隔板分离，避免交叉污染，部分隔板可免工具拆卸。
3、样品台系统：1套
基片挂架：方形水冷盘1套。可承载1200*600mm基片1片;
接入低温冷却液循环，容量100L，温度范围：-40℃--常温。
4、真空泵机组：1套
2X-70旋片泵1台;
DN80电磁充气阀1台;
DN100真空泵连接管道1套;
CCQ-100CF气动超高真空插板阀1台;
VRD-48双级泵2台;
DDC-JQ50-KF真空电磁充气阀2台;
KF50泵阀连接软管2套;
GDQ-J50B-KF高真空气动挡板阀2台;
JFTB-1600Z分子泵2台;
CCQ-250CF气动超高真空插板阀2台;
GDQ-J16B-KF高真空气动挡板阀1台;
ZDF-5227数显真空计1台(测量范围：1×105～1×10-5Pa)。
5、膜厚检测系统：1套
膜厚仪：采用SQC310石英晶振膜厚监控仪1台，模式：顺序镀膜，探头：2通道;显示以及控制精度：0.01Å/秒，频率分辨率0.01Hz;
膜厚探头：美国MCVAC进口水冷膜厚探头2套，6MHz，采用快速卡扣式结构更换晶振片，避免用螺纹压紧式结构损坏晶振片，采用胶圈锁紧密封结构。
6、设备机架：1套
50碳钢方管焊接机架1套，表面喷塑;
3英寸万向轮4件，移动调整;
M16地脚4件，锁紧定位。
7、其他电控系统：1套(电气控制采用设备机架内置)
烘烤照明电源：1台;
总控制电源1台，配10英寸触摸屏，PLC控制器，样品台及挡板控制器，蒸发源挡板控制器，泵阀开关、相序检测，以及电缆开关接头等。
8、其他技术参数：
缺相保护、误操作保护，联动互锁以及一键真空启停等功能;
供电：～380V三相供电系统(峰值30KW);
供水：小型循环制冷水机，冷却水温度5℃～35℃，工作环境温度：10℃～40℃;
供气：小型无油静音气泵，提供0.2-0.3MPa气压，驱动气动阀门;
极限真空：优于6×10-5Pa，大气至6×10-4Pa时间小于45分，充干燥氮气。
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