碳纳米膜制备设备

产品型号：LFT1400C 800D802Z

品 牌：其他品牌

厂商性质：生产商

所 在 地：合肥市

产地类别：国产

应用领域：医疗卫生,化工,能源,电子,电气

一、结构简介

碳纳米膜制备设备，由气体质量流量计控制系统、液体注液系统、多段温度可控多区生长系统、水冷却系统、碳纳米线或膜收集系统，红外烘干系统等组成。生长炉的最高温度1400℃，并可在0-1400℃之间连续可调，垂直式分布热场，三点控温(三段长度平均分配)，设备顶部设有注液口、导流器。炉体采用双层壳体结构并带有风冷系统，保温材料为加厚型，壳体表面温度小于60℃。采用高纯氧化铝管作为炉膛材料，加热元件为优质硅碳棒。本款碳纳米管或膜CVD设备可以实现连续生长不间断的特点。

二、性能参数

型号LFT1400C 800D802Z

额定功率18KW

额定电压AC380V

最高温度1400℃

额定温度1300℃

推荐升温速率1400℃以下≤10℃/min

炉管尺寸：(可根据客户要求订制)刚玉管Φ80× 1400mm

外型尺寸(长×深×高)1680*700*2560mm

控温精度±1℃

极限真空度(选件)1.0×10-3Pa(机械泵+分子泵)

加热元件硅碳棒

重量230KG

客户自配装空气开关40A