真空悬浮熔铸炉
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真空悬浮熔铸炉
来源:锦州华圣冶金设备有限责任公司
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简介: VIM-HC真空悬浮熔铸炉是在真空条件下将所熔炼的金属或非金属固体炉料,置于感应线圈所形成的高频或中频交变电场中,并利用通水冷却的金属坩埚作为磁场的“聚能器”,使能源磁场能量集中于坩埚容积空间,进而在炉料的表层附近形成强大的涡电流,一方面释放出焦耳热使炉料溶化,另一方面形成洛仑兹力场使熔体悬浮(或半悬浮)和搅拌。由于磁悬浮的作用,使熔体与坩埚内壁脱离接触,这样熔体与坩埚壁之间的散热行为由传导散热改变为辐射散热,从而导致散热速度聚减。使熔体可达到很高的温度,(1500℃—2500℃)宜于熔炼高熔点金属或其合金。
产品详细
真空悬浮熔铸炉

1. 适用领域:

钛、锆、超导体、储氢材料、形状记忆合金、磁铁、金属间合金和高温材料等活性材料;

2. 悬浮熔炼的原理:

VIM-HC真空悬浮熔铸炉是在真空条件下将所熔炼的金属或非金属固体炉料,置于感应线圈所形成的高频或中频交变电场中,并利用通水冷却的金属坩埚作为磁场的“聚能器”,使能源磁场能量集中于坩埚容积空间,进而在炉料的表层附近形成强大的涡电流,一方面释放出焦耳热使炉料溶化,另一方面形成洛仑兹力场使熔体悬浮(或半悬浮)和搅拌。由于磁悬浮的作用,使熔体与坩埚内壁脱离接触,这样熔体与坩埚壁之间的散热行为由传导散热改变为辐射散热,从而导致散热速度聚减。使熔体可达到很高的温度,(1500℃—2500℃)宜于熔炼高熔点金属或其合金。

3. 技术优势:

熔炼时炉料的悬浮有效防止炉料与坩埚壁接触所带来的污染,宜于获得高纯度或极活泼的金属与非金属材料;

熔体电磁搅拌为熔体提供了极好的热均匀性和化学均匀性;

通过感应线圈的中频或高频电流来控制熔体的升温和悬浮,实现很好的控制能力;

熔炼温度高,最高熔炼温度超过2800℃,能熔化Cr、Zr、V、Hf、Nb、Mo、Ta等金属;

感应加热方法本身就是一种非接触的加热方式,避免了用等离子束、电子束等加热方法给坩埚和金属溶液带来的冲击与挥发;

功能齐全,具有熔炼、底铸、倾铸、加料等功能,并能配备连续加料、连续拉锭装置和离心铸造装置(选择订购)。

4. 技术参数:

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标签:真空悬浮熔铸炉,熔铸炉
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