真空热压烧结炉

【用途】:本设备主要供大专院校、科研单位等针对金属化合物、陶瓷、无机化合物、纳米材料等在真空或保护气氛的条件下进行加压加热烧结处理,以便获得一致的产品，例如生产高精度氮化硅陶瓷轴承及氮化硅陶瓷基板等。

特点:

(1)双层SUS304炉体结构，中间通以冷却水，有效降低炉体表面温度减少高温伤害，降低对环境的影响;

(2)框架式双立柱支承结构，采用型材焊接,整体加工，保证设备的可靠性;

(3)采用保温材料及隔热结构，导热系数低，保温效果好，即使在很高的温度下也能有效隔绝热量，节约能耗;

(4)温度范围广，加热元件多种可选，例如石墨、钼、钨、钽等，在合适的保护气氛中，温度可达2400℃ ，可适应不同材料的热压烧结;

(5)多样化真空系统配置，根据工艺选择不同等级的真空度;

(6)设有充放气系统，既可以选择在真空环境中进行热压烧结，也可以选择在惰性气氛或还原性气氛中进行热压烧结;

(7)人性化配置，既可以手动操作，也可以实现一键智能操作;

(8)炉多用，可作为单纯的真空或气氛烧结炉使用;

(9)型式多样化，立式上出料、立式侧开门出料、单向加压、双向加压等等，任意选择;

(10)本产品接受非标定制。