真空高温烧结炉（碳化硅、氮化硅）
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真空高温烧结炉（碳化硅、氮化硅）
来源：沈阳真空技术研究所有限公司
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简介： 真空高温烧结炉（碳化硅、氮化硅）主要用于SiC陶瓷制品的反应烧结、无压烧结、重结晶烧结、热等静压烧结，也可用于氮化硅等其他陶瓷制品的烧结。
产品详细
真空高温烧结炉（碳化硅、氮化硅）

用途：

主要用于SiC陶瓷制品的反应烧结、无压烧结、重结晶烧结、热等静压烧结，也可用于氮化硅等其他陶瓷制品的烧结。

优势与特点：

最高 温度可达到3000℃。

新型加热室结构，多温区独立控温，温度均匀性好，损耗功率小，更节能。

进口红外测温仪，测温准确，误差小。

可选项：

炉体形式：立式，卧式

加热方式：电阻加热;感应加热

冷却方式：自然冷却;气体循环冷却

真空泵组：进口;国内优质品牌

目前该设备已形成系列化产品，不在系列范围内的可根据客户要求定制。
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标签：真空高温烧结炉,烧结炉
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