设备用途：

利用电阻加热产生热能，将待成膜的物质置于真空中进行蒸发或升华，使之在基片表面析出的过程。用于制备各类金属膜、有机薄膜等，适合有机发光二级管(OL ED) 和光伏电池等的有机/无机薄膜生长，广泛应用千大专院校、科研机构的科研及小批量的生产。

主要技术指标：

真空指标生长室：

极限真空度:优于6. 6X10-5Pa; 抽速： 40分钟可达到5 X 10-4Pa, 检漏漏率:优于10- 7Pa. 1 / s;

进样室：

极限真空度:优于 6. 6 X 10-4Pa; 抽速： 40分钟可达到5 X 10-3 Pa, 检漏漏率:优于10-7 Pa. 1 / s;

生长室真空室尺寸约为Φ500mm X H625mm, 上法兰为封头结构，前面设有矩形活开门真空室设计采用高真空设计，四壁水道冷却，壁挂防污板，选用优质不锈钢材料制造，氩弧焊接，表面处理采用喷玻璃丸+化学电解抛光钝化处理新工艺;

进样室带九层样品库; 样品尺寸最大 150 X 150mm ;样品台装置可手动上下升降，手动转动，并有每90度角度位置定位装置，满足样品更换掩膜板及样品交接传递需要

蒸发源无机蒸发源 ： W/T a/ Mo舟蒸发;

E型电子枪： 功率0- 8KW, 四穴玵涡， 每个容量约为 20 ml;

单穴尺寸：Φ42mm X Φ35 mm X 25mm (圆台型)

低温有机蒸发源：温度范围： 50—600°C。三氧化二铝坩埚 ，标准容量10cc ;

高温有机蒸发源： 常用温度1200°C, PBN玵祸， 标准容量1- 10cc ;

样品传递装置手动或电动控制传递杆

真空获得及测量分子泵+机械泵或冷泵+干式真空泵;数显复合真空计(皮拉尼规+电离规)

样品台基片尺寸： 可放置最大150 X 150mm; ( 可选单样品加热，温度范围0- 300°C )

基片掩膜库装置 1套：上面4层为掩膜库，每层可装1种 掩膜板

蒸发电源3KW，带有微调功能±0.1A

控制系统 自动

手套箱密闭循环手套箱内的隋性气体经循环风机和净化器密闭循环，不断地除水除氧;自动控制再生：除水除氧材料可以再生，再生过程由程序控制;自动清洗：手套箱内的气氛置换通过自动控制的清洗阀门完成;箱体压力控制：手套箱内压力通过PLC自 动控制，工作压力+/- 10 mbar 内可以自由设定，超出+/ - 12mbar 系统自动保护;真空泵自动控制：真空泵要求在系统需要时自动开启;

功能：气体密闭，除水、除氧; 容器材料： 304不锈钢;

净化材料：铜触媒 5kg,分子筛：5kg;

净化能力：除氧：60L, 除水：2Kg;

水氧指标：小千1ppm;

水冷机组可选

石英晶振膜厚仪多探头可选