产品应用：

采用高频感应加热、激光加热或电子束加热，利用杂质元素在固相和液相之间溶解度的不同，通过熔区的运动提纯材料的工艺设备。用于生产高纯度的陶瓷、金属、合金、无机和有机化合物晶体。

技术参数：

1. 感应熔炼水平区熔提纯炉：(HVZM-I)

2. 电子束熔炼垂直区熔提纯炉：(HVZM-EB)

3. 激光束熔炼垂直区熔提纯及单晶生长炉：(HVZM-L)

4. 感应熔炼水平区熔+垂直区熔联合提纯炉：(HVZM-IF)

型号HVZM-EBHVZM-LHVZM-1

真空性能极限真空度6.67 x 10-4Pa6.67 x 10-4Pa6.67 x 10-4Pa

压升率≤0.67Pa/H≤0.67Pa/H≤0.67Pa/H

抽气系统分子泵+机械泵分子泵+机械泵分子泵+机械泵

真空测量系统数显复合真空计数显复合真空计数显复合真空计

最高加热温度2600℃2600℃1800℃

最大棒料尺寸Dn10mm×200mmDn10mm×200mmDn20mm×200mm

样品移动速度1mm/H~360mm/H1mm/H~360mm/H0.001~1mm/s

坩埚材质无坩埚结构无坩埚结构水平区熔采用水冷铜坩埚

立式区熔采用无坩锅结构

电源最大功率10~30KW1.5~2KW75KW

控制系统PC+PLC控制系统实现设备的自动控制

设备尺寸(L×W×H,mm)2700×1500×21002700×1500×21003000×1500×1600

用电需求20~40KW,380V/3P/50Hz10KW,380V/3P/50Hz90KW,380V/3P/50Hz

设备特性1. HVZM-D, HVZM-L设有LMC液态金属冷却系统

2. HVZM-1F型的立式区熔模块部分设有LMC液态金属冷却系统

★设备自带进水分水器、回水回流器阀门及管路;不配置水循环系统;

★可选配水循环系统：包括不锈钢水箱、水泵、阀门及管路等;

★可根据用户需求非标定制。