产品应用：

真空或气氛保护下，通过石墨或金属电阻加热对材料进行热处理。

本炉用于各种金属材料(高温合金、钛合金、工模具钢等)在真空或惰性气体保护环境下的高压气体淬火，光亮退火，固溶时效，回火等热处理工艺。

技术参数：

型号HVHF-M(中低温)HVHF-CG(超高温)HVHF-QZ(高压气淬)

极限真空度6.67×10-4Pa6.67×10-4Pa6.67×10-3Pa~6.67×10-4Pa

压升率0.67Pa/H0.67Pa/H0.67Pa/H

抽气系统分子泵系统扩散泵/分子泵机组

真空测量系统数显复合真空计

最大温区尺寸(可按客户要求定制)Φ500×700mmΦ200×300mm200×200×300mm

淬火方式 无 无高压气淬

加热方式双区加热单区/双区加热

最高工作温度石墨加热 2500℃

钨加热 2200℃钼加热 1600℃

温度均匀性≤±5℃≤±5℃≤±5℃

温控精度±3℃±3℃±2℃

隔热屏石墨加热：硬质碳毡隔热层

钨加热：全金属屏隔热层全金属保温屏

控制系统触摸屏+PLC全自动控制系统配备

设备尺寸(L×W×H,mm)

(根据温区要求变化)1700×1600×30001500×1200×17002500×2000×2000

用电需求

(按设备实际尺寸变化)100KW，380V/3P/50Hz70KW，380V/3P/50Hz30KW，380V/3P/50Hz

★设备自带进水分水器、回水回流器阀门及管路;不配置水循环系统;

★可选配水循环系统：包括不锈钢水箱、水泵、阀门及管路等;

★可根据用户需求非标定制。