简介： PLD激光镀膜系统是一种先进的薄膜制备设备，广泛应用于材料科学和纳米技术领域。它通过脉冲激光沉积技术，能够精确地在基底上制备高质量的薄膜材料，包括超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜和超硬薄膜等。该系统具备高度的工艺灵活性和薄膜性能调控能力，适用于科研和工业生产中对高性能薄膜材料的需求，是推动新材料研发和应用的关键设备。