简介： 本设备用于制备各类高熔点金属膜、介质膜、化合物膜、导电薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等，广泛应用于大专院校、科研机构对薄膜材料的科研及小批量制备。用于镀制各种单层膜、多层膜。可镀各种硬质膜、金属膜。主要用于制备纳米器件、有机光电器件的金属电极，以制备用于生长纳米材料的催化剂薄膜层。