简介： 设备用于各种金属薄膜、半导体薄膜、介质薄膜、超晶格薄膜、集成光学薄膜、多层薄膜和薄膜器件的制备。该系统可以与磁控溅射系统结合，单独也可以同时进行磁控溅射镀膜和离子束溅射镀膜膜，也可以联合制备磁控和离子束溅射复合膜。样品通过磁力进样机构实现在两个真空室之间的传递。整个系统具有用离子束制备超薄膜到中厚膜和用磁控溅射制备中厚膜到厚膜的全部功能